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      日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

      日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

      產(chǎn)品型號: IVF198RV

      所屬分類:

      產(chǎn)品時(shí)間:2025-08-02

      簡要描述:日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV
      利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
      一種臺式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成

      詳細(xì)說明:

      日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

       

      說明?

      利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
      一種臺式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成。
      有真空室型和石英管法蘭型。

      特點(diǎn)

       

      大加熱速度為150℃/秒,加熱時(shí)間為1500℃約1min
      清潔加熱,不影響從熱源散發(fā)的氣體或電磁感應(yīng)
      可以選擇觀察熱樣品。

      用途?

      真空/氣流中的樣品退火
      半導(dǎo)體樣品(例如硅和SiC)和氧化物的熱處理
      石墨烯和CNT加熱
      高溫材料(例如高耐熱金屬和陶瓷)的溫升測試
      在氧氣,氫氣等氣流中退火
      潤濕性測試

      日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

      規(guī)格

      紅外真空爐IVF系列具有以下規(guī)格的產(chǎn)品。
        
       
       石英管類型房車類型 加熱氣流中樣品的理想選擇。
       面對面照射石英管型簡歷類型 從上方和下方照射紅外線。
       用于加熱固體和粉末。
       聚焦照射方式W型 由于開口較寬,因此易于打開和關(guān)閉樣品。
       帶有端口的大量腔室可用于各種實(shí)驗(yàn)。
       表面照射類型P型/ PD型 用于加熱2英寸大小的樣品。
        
       
       石英管式紅外真空爐IVF-RV型
      型號名稱IVF198RVIVF298RV
       紅外燈額定值1千瓦2千瓦
       gao溫度1400°攝氏度1600°攝氏度
       加熱面積φ20毫米
       大加熱速度50°C /秒100°C /秒
       大極限真空5×10 -4
       冷水量1升/分鐘2升/分鐘

       面對面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型

      型號名稱IVF198CVIVF298CV
       紅外燈額定值1千瓦2千瓦
       gao溫度1500°攝氏度1700°攝氏度
       加熱面積φ10毫米x 10毫米φ15毫米x 10毫米
       大加熱速度50°C /秒100°C /秒
       大極限真空5×10 -4
       冷水量1升/分鐘2升/分鐘

      聚焦輻照紅外真空爐IVF-W

      型號名稱IVF198WIVF298W
       紅外燈額定值1千瓦2千瓦
       gao溫度1300°攝氏度1500°攝氏度
       加熱面積?φ20毫米
       大加熱速度50°C /秒100°C /秒
       大極限真空5×10 -4
       冷水量1升/分鐘2升/分鐘

      表面照射型紅外線真空爐IVF-P / PD型

      型號名稱IVF29PIVF29PDIVF39PD
       紅外燈額定值2千瓦2千瓦x 23千瓦x 2
       gao溫度800°攝氏度1000°攝氏度1200°攝氏度
       加熱面積φ50毫米
       大加熱速度20°C /秒50°C /秒
       大極限真空5×10 -4 P
       冷水量2升/分鐘

       



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