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      日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV

      日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV

      產(chǎn)品型號: Ultra Apex Mill Advance

      所屬分類:

      產(chǎn)品時間:2025-08-01

      簡要描述:日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV
      在我們的產(chǎn)品線中,損傷分散小的珠磨機。針對“超低損傷納米顆粒分散體"進行了優(yōu)化的濕微珠磨機,是使用φ15μm至φ50μm磁珠進行低沖擊攪拌的設(shè)備,這是一種先進的寬分離器三角磨機。

      詳細說明:

      日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV

      一liu的超低沖擊濕法微珠磨機,用于納米分散

      總覽

       在我們的產(chǎn)品線中,損傷分散小的珠磨機。針對“超低損傷納米顆粒分散體”進行了優(yōu)化的濕微珠磨機,是使用φ15μm至φ50μm磁珠進行低沖擊攪拌的設(shè)備,這是一種先進的寬分離器三角磨機。
       帶有新設(shè)計的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機可實現(xiàn)低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力,同時保持珠粒的足夠的攪拌速度,在維持每單位珠粒量的加工速度的同時,對納米顆粒的損害小化。
       另外,為了滿足xin的納米分散需求,轉(zhuǎn)子設(shè)計使研磨機中珠粒的攪拌能量均勻,從而可以進行均勻的分散處理。

      特征

      1.可以分散gao級別超低損傷納米顆粒的珠磨機!

      珠磨機,即使使用軟顆粒或納米顆粒的漿液,也可以進行超低沖擊處理,并且可以進行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒,例如100 nm級鈦酸鋇和有機顏料,而傳統(tǒng)的珠磨機無法對其進行適當處理。

      2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加!

      這是一種珠磨機,可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細小碎片抑制到小,即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動性和改善長期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。

      3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利!

      由于在珠磨機中的攪拌功率高度均勻,因此在漿料中的分散度均勻,并且可以抑制顆粒碎屑,因此即使使用幾十nm的納米顆粒,也可以獲得清晰的粒徑分布。可以提高產(chǎn)品性能,并且可以在批量生產(chǎn)條件下復制產(chǎn)品設(shè)計時預期的產(chǎn)品性能。

      運行條件

      可用磁珠直徑

      Φ15μm?Φ0.3毫米

      珠粒分離器圓周速度

      6m /秒至18m / s

      應用實例和終產(chǎn)品實例

      高粘度支撐

      光學材料(氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體),導電涂料,化妝品(氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體)等。

      支持低損傷擴散

      電子材料(鈦酸鋇,中空二氧化硅),電極材料(納米銀,鎳等),熱射線阻擋材料(ITO等),光催化劑(氧化鈦),
      液晶顏料等。

      介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

      日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV

      產(chǎn)品名稱大綱可用磁珠直徑
      頂點磨濕式研磨珠磨機
       立式濕式研磨珠磨機,可有效處理微米至亞微米級的研磨
      φ0.3毫米?φ5毫米
      超尖磨機*yi臺  微珠磨粉機納米珠磨粉機的標準模型,
       可以使用小直徑為15μm的微珠
      粉,它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機。
      φ15?1毫米
      雙頂點磨 濕式微珠研磨機,
       用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散,特別是用于低損傷的納米顆粒分散
      φ15?1毫米
      寬分離器
      Apex Mill
      高流量高粘度珠磨機
       濕式微珠磨機,與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容
      φ15?0.3毫米
      Ultra Apex Mill
      Advance
      超低損傷納米分散機
       高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機
      φ15?0.3毫米
      Apex Mill F&M用于藥品,食品和化妝品的無  密封
       珠磨機,適用粉碎有機物質(zhì)。珠磨機
      省略了機械密封,以提高清潔性并防止污染,
       尤其適用于納米級制藥
      φ0.1毫米?φ5毫米
       


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